在半导体产业这片竞争激烈的红海中,每一个细微的技术进步都可能成为改变行业格局的关键。近年来,先进制程刻蚀机反应腔体内衬氟化钇涂层的开发与应用,正成为提升芯片生产效率与质量的关键所在。
上海贺东电子材料有限公司,作为这一高精尖技术领域的探索者与先行者,正以其雄厚的研发实力和前瞻性的技术创新,为半导体材料的国产化进程注入新的活力。
作为河南东微电子材料有限公司的全资子公司,贺东电子自2021年成立以来,便承载着推动半导体材料国产化的使命与梦想,专注于刻蚀设备腔体零部件及其涂层的研发与生产。
贺东电子总经理贾时君表示:“从成立之初,我们就制定了明确清晰的战略发展路线。我们从第一性原理出发,深入理解应用端芯片制造的真实需求,布局不同涂层材料的开发,以及同种材料不同性能级别的研究与开发。我们深入研究材料的特点和属性,致力于打造品质稳定的产品,确保在应用端使用环境下材料的高性能发挥。”
氟化钇涂层以其出色的耐等离子腐蚀性能和低颗粒产生率,在14nm-7nm先进制程的刻蚀设备中扮演着至关重要的角色。然而,这一技术长期被外资企业所垄断,国内企业在这一领域一直处于被动地位。面对这一困境,贺东电子迎难而上,经过无数次的试验与改进,终于攻克了氟化钇涂层的关键技术,实现了国产化替代,打破了国外技术的垄断。
贺东电子技术专家崔佳平指出:“氟化钇涂层技术在芯片制造的先进制程中具有广阔的应用前景。这项技术不仅有助于延长刻蚀设备内衬零部件的使用寿命,提高工业的稳定性,还能改善芯片制造的良率。此外,这项技术在其他工业领域也展现出潜在的应用价值。”
在科技创新的道路上,贺东电子从未停歇。2024年,公司在氟化钇涂层技术方面取得了重大突破,并根据客户订单量,正在积极扩展建设新产线。
贾时君总经理强调:“贺东的优势在于我们能够立足当下,看清未来的趋势,并扎扎实实地践行、落地我们的每项具体规划。我们致力于为祖国的半导体行业发展贡献力量。”
未来,贺东电子将继续以科技创新为引擎,不断突破技术壁垒,推动产品迭代升级,为中国半导体产业的崛起贡献更多力量!
本节目于2月14日在上海东方财经频道播出,本文内容为初稿样片整理版,供参考。以最终电视台播出版本为准。
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编导:侍勤勤