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科技创新促发展,德图科技为集成电路发展贡献力量

近日,由国家科技部、教育部、财政部、全国工商联和国家网信办共同指导的第十届中国创新创业大赛宁波赛区产业决赛在万众瞩目中盛大启幕,宁波德图科技在本次比赛中以信息产业半决赛和决赛两个第一名的身份晋级总决赛,并在总决赛里以全场第二的高分荣获一等奖。

科技创新促发展,德图科技为集成电路发展贡献力量(图1)

宁波德图科技有限公司创建于2021年,总部位于浙江省宁波市北仑区。德图科技拥有一支全面、强大和经验丰富的核心团队,成员包括海内外著名大学终身教授、世界半导体和系统公司技术领头人,具有多年从业经验的世界著名EDA公司产品开发负责人和国际顶级EDA专家等。

科技创新促发展,德图科技为集成电路发展贡献力量(图2)

宁波德图科技有限公司合伙人/技术副总经理蒲菠说道:“我之前有过在海外所在领域排名全球第一的学术机构任职和全球半导体龙头企业的多年工作经历。在那个时候,我发现,很多集成电路领域的重大突破,都离不开华人的贡献。所以我坚信,我们国家的集成电路产业,总有一天,会站上全球最领先的行列。我相信,这也是我和我们广大归国学长及国内专家人才,投身于中国集成电路事业,为中国半导体崛起贡献一份力的根本原因。”

科技创新促发展,德图科技为集成电路发展贡献力量(图3)

在集成电路先进封装领域,德图科技在多物理与电路提取,电磁分析,测试仿真混合及技术服务方面,都拥有世界领先的技术。在未来三年,德图科技计划分阶段推出多款应用于集成电路、先进封装和系统高速高频后端的EDA产品。

科技创新促发展,德图科技为集成电路发展贡献力量(图4)

宁波德图科技有限公司总经理助理何秋森提到:我们技术团队拥有领先的核心算法,开发出的EDA工具在兼具速度和性能的同时,会更加符合工程师朋友们的使用习惯。

德图科技,力求依托行业经验优势,加之领先的软硬件服务模式及世界级人才团队,在集成电路后端领域实现突破,打造一个集多物理、电磁场和电路分析为一体的综合电子设计自动化EDA平台,实现技术世界领先,填补行业空白,为中国的集成电路自主创新做出贡献。

科技创新促发展,德图科技为集成电路发展贡献力量(图5)

编辑:范明星编导:李松洋后期制作:成明琴

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